Калциум флуорид сферично огледало со супер мала загуба

Сферно огледало со калциум флуорид со супер ниски загуби: Прецизна оптика за апликации од следната генерација

Кога секој фотон е важен, нашето сферно огледало со калциум флуорид со супер низок губиток нуди неспоредливи перформанси во екстремна ултравиолетова (EUV) литографија, ултрабрзи ласери и прецизни оптички системи. Изработени со синтетички CaF₂ со чистота од 99.99%, овие огледала го минимизираат губитокот на светлина на <10 ppm, додека го одржуваат структурниот интегритет под зрачење со голема моќност. Без разлика дали оптимизирате изработка на чипови или ги поместувате границите на ласерската физика, нашите огледала нудат точност на површината под нанометри и термичка стабилност (±5 ppb/K) за критични апликации.

Зошто нашите огледала се издвојуваат

• Ултра ниска апсорпција: Постигнете рефлективност од 99.999% на бранови должини од 13.5 nm, намалувајќи го отпадот на енергија и термичкото нарушување, што е клучно за производството на EUV полупроводници каде што дури и мала апсорпција би го нарушила обликувањето на плочките, обезбедувајќи ефикасно искористување на фотоните во високопрецизните литографски процеси.
• Термичка стабилност: Одржувајте димензионална точност од ±0.01% дури и на 100°C, идеално за алатки за литографија со голема моќност EUV, спречувајќи неусогласеност во линиите за производство на полупроводници каде што температурните скокови би можеле да го компромитираат печатењето на кола во наноскала, обезбедувајќи конзистентни перформанси при операции со интензивна топлина.
• Наноскална прецизност: Рапавоста на површината <0.12 nm Ra (тестирана преку профилометар Zygo) обезбедува минимални загуби на расејување, што е од витално значење за EUV оптиката и квантните комуникациски системи каде што расејуваните фотони би го нарушиле интегритетот на сигналот, што одговара на прецизноста потребна за напредни оптички апликации.
• Прилагодливи дизајни: Изберете дијаметри од φ12.7 mm до φ100 mm, со радиуси на закривеност (500–8000 mm) прилагодени на вашата оптичка поставеност, беспрекорно вклопувајќи се и во компактни лабораториски инструменти и во опрема за производство на полупроводници од голем обем, прилагодувајќи се на различните технички барања со прецизност.

параметри

Забелешка: Спецификациите може да се прилагодат на вашите специфични потреби.

Клучни апликации

• EUV литографија: Овозможете производство на чипови под 7nm со огледала кои се отпорни на термичко поместување и контаминација, користејќи рефлективност од 99.999% на 13.5nm и димензионална стабилност од ±0.01% на 100°C за одржување на прецизни патеки на фотоните, што е клучно за обликување на мали кола без дисторзија од топлина или остатоци.
• Фемтосекундни ласери: Минимизирајте ја дисторзијата на пулсот во ултрабрзите ласерски шуплини преку нанопрецизност (рапавост на површината <0.12nm Ra), осигурувајќи дека пулсите ја задржуваат својата форма и енергија - ова ја намалува дисперзијата, што е од витално значење за апликации како што се микромашинска обработка и спектроскопија каде што интегритетот на пулсот ги диктира резултатите.
• Метролошки системи: Подобрете ја точноста на мерењето со нула оштетување на подземјето, во комбинација со прилагодливи дизајни (φ12.7 mm–φ100 mm во дијаметар) кои беспрекорно се вклопуваат во поставките за калибрација. Ултра мазните површини го елиминираат расејувањето, осигурувајќи дека отчитувањата не се искривени од несовршености на материјалот, што е клучно за високопрецизна димензионална анализа.

Создаден за доверливост

Секое сферно огледало со супер низок губиток на калциум флуорид се подложува на:

• 100% интерферометриско и спектроскопско тестирање: Потврдете ја рамноста на површината и спектралните перформанси на секоја компонента, обезбедувајќи рефлективност од 99.999% при 13.5 nm и грубост Ra <0.12 nm - критично за EUV литографските огледала и фемтосекундните ласерски шуплини каде што дури и малите отстапувања би можеле да ја нарушат прецизноста.
• Симулации на стрес во животната средина (термички циклуси, влажност): Подложувајте ги компонентите на флуктуации од -50°C до 300°C и 95% влажност за да ги имитирате условите во реалниот свет, обезбедувајќи стабилност кај EUV алатките и метролошките системи што работат во различни индустриски или лабораториски средини без намалување на перформансите.
• Потврда од трета страна за усогласеност со SEMI и ISO 9001: Независните ревизии потврдуваат придржување кон стандардите за полупроводничка индустрија (SEMI) и системите за управување со квалитет (ISO 9001), обезбедувајќи гаранција за клиентите од автомобилската и воздухопловната индустрија дека компонентите ги исполнуваат строгите барања за сигурност и конзистентност за апликации со висок ризик.

Доверба од лидерите во индустријата

Ние испорачуваме огледала за ASML-сертифицирани производители на оригинална опрема (OEM) и врвни истражувачки лаборатории, нудејќи:

• Скалабилно производство: Годишен капацитет од над 10,000 единици.
• 24/7 инженерска поддршка: Заеднички дизајн на премази или геометрии специфични за апликацијата.
• Доживотна гаранција: Гарантирани перформанси со нулта деламинација или двојно прекршување.

Имате прашања?

П: Каква UV транспарентност можам да очекувам на 13.5 nm?

A: Нашите огледала постигнуваат >99% трансмисија на 13.5 nm со повеќеслојни Mo/Si премази.

П: Како се обезбедува грубост на површината <0.5 nm?

A: Користиме магнетореолошка завршна обработка (MRF) и мерења на целосна фреквенција потврдени од Zygo.

П: Дали вашите огледала се во согласност со ITAR?

A: Да – нудиме опции без ITAR и контролирани од EAR за глобални пратки.

П: Можете ли да изработувате огледала над φ100 mm?

A: Достапни се прилагодени дијаметри до φ500 mm со точност на закривување од ±0.05%.

Подготвени сте да го оптимизирате вашиот оптички систем?

Испратете е-пошта на xachaona@163.com за понуда или технички консултации во врска со сферично огледало со супер низок губиток со калциум флуорид . Ајде да го дизајнираме вашето прецизно решение денес.